안녕하세요.
경기대학교 신소재공학과 석사연구생 구재우 입니다.
저희가 ZnO, Ru, Al2O3 등의 물질을 Thermal ALD로 증착하려고 하는데, 당 사에서 취급하는 Thermal Mini ALD 장비에 대해 문의드리고자 연락드렸습니다.
혹시 당 사에서 취급하시는 Thermal ALD 장비가 저희가 사용하기에 적합한지 확인해주실 수 있을까요? Reactant로 H2, O2, H2O 외에 이후에 1~2개정도 추가될 수있고, Precursor는 현재 사용하는 기준으로는 3개가 있습니다.
감사합니다.
답변은 전화나 mail중 편하신대로 보내주시면 감사하겠습니다.
gamil : yoyo8415@kyonggi.ac.kr
Phone : 010-7664-6759
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Nexus Plaminar™ Series 문의드립니다.
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안녕하세요. SPACE DIVIDED ALD 관련하여 문의드립니다.
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