Introduction

시/공간분할 방식의 ALD 기술
원천 핵심 기술 기반

“저온/정밀제어 & 진공/비진공 고생산성 시/공간분할 ALD”
“상압 R2R & Powder ALD”
“전력반도체용 Mixed ALD”

Product

· Mini-ALD™
· Plaminar™
· Nexus T-Max™
· Nexus S-Max™

Recruit

Notice

About +

“Different Solution Provider”

Display / Semiconductor / Energy 제조 장비 분야
원자층 증착 장비(Atomic Layer Deposition, ALD) 기반
Different Solution Provider

Technology +

넥서스비 핵심기술

넥서스비는 시분할 및
공간 분할 (Space Divided) ALD 핵심 기술 기반으로
독자적인 Gas Injecting 기술과 R&D/설계/공정/제조 기술 바탕으로
시공간분할/비진공/고생산성/대면적화 등의 기술 경쟁력을 보유하고 있습니다.

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