지식재산권 / 기술이전 및 출자
지식재산권명 | 출원등록인 | 출원등록국/출원등록번호 | 등록일 | 비고 |
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고속 원거리 플라즈마 원자층 증착장치 | 한양대학교 산학협력단 |
한국/ 10-1407068 |
2014.06.05 | (주)넥서스비 기술이전 |
Fast remote plasma atomic layer deposition apparatus | 대만/ 103101238 |
2017.01.25 | (주)넥서스비 기술이전 |
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유-무기 박막 증착 장치 및 유-무기 박막 증착 방법 | 한국/ 10-2016-0079168 |
- | (주)넥서스비로 현물 출자完/ PCT 출원 完 |
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원자층 증착 장비 가스 모듈, 원자층 증착 장비 및 그를 이용한 원자층 증착 방법 (하이브리드 고속 원자층 증착법) |
한국/ 10-2016-0079172 |
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원자층 증착 장비 가스 모듈, 원자층 증착 장비 및 그를 이용한 원자층 증착 방법 (롤투롤 방식 원자층 증착법) |
한국/ 10-2016-0079170 |
- | 원자층 증착 장비 및 그를 이용한 원자층 증착 방법 | 한국/ 10-2016-0108985 |
- | (주)넥서스비로 추가 기술이전 검토중 |
지식재산권 / 자체 출원
지식재산권명 | 출원등록인 | 출원등록국/출원등록번호 | 등록일 | 비고 |
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원자층 증착 장비 및 그를 이용한 원자층 증착 방법 | ㈜넥서스비 | 한국/ 10-2016-0108987 |
- | (주)넥서스비 자체출원/ PCT 출원 完 |
원자층 증착을 위한 가스 공급 모듈 | 한국/ 10-2017-0048384 |
- | (주)넥서스비 자체출원 |