지식재산권 / 기술이전 및 출자

지식재산권명 출원등록인 출원등록국/출원등록번호 등록일 비고
고속 원거리 플라즈마 원자층 증착장치 한양대학교
산학협력단
한국/
10-1407068
2014.06.05 (주)넥서스비
기술이전
Fast remote plasma atomic layer deposition apparatus 대만/
103101238
2017.01.25 (주)넥서스비
기술이전
유-무기 박막 증착 장치 및 유-무기 박막 증착 방법 한국/
10-2016-0079168
- (주)넥서스비로
현물 출자完/
PCT 출원 完
원자층 증착 장비 가스 모듈, 원자층 증착 장비 및 그를 이용한 원자층 증착 방법
(하이브리드 고속 원자층 증착법)
한국/
10-2016-0079172
-
원자층 증착 장비 가스 모듈, 원자층 증착 장비 및 그를 이용한 원자층 증착 방법
(롤투롤 방식 원자층 증착법)
한국/
10-2016-0079170
-
원자층 증착 장비 및 그를 이용한 원자층 증착 방법 한국/
10-2016-0108985
- (주)넥서스비로
추가 기술이전
검토중
 

지식재산권 / 자체 출원

지식재산권명 출원등록인 출원등록국/출원등록번호 등록일 비고
원자층 증착 장비 및 그를 이용한 원자층 증착 방법 ㈜넥서스비 한국/
10-2016-0108987
- (주)넥서스비
자체출원/
PCT 출원 完
원자층 증착을 위한 가스 공급 모듈 한국/
10-2017-0048384
- (주)넥서스비
자체출원